韩晶片技术外洩高管判囚

（首尔13日讯）韩国半导体公司SK海力士7年前爆出对华洩露晶片技术案，最高法院周四作出终审判决，判处一名任职SK海力士合作公司高管的被告有期徒刑1年6个月，维持原判。该高管与其他3名职员涉于2018年，将与SK海力士合作时得知的晶片关键技术、最新技术及商业机密洩露给中国竞争企业。他们还涉嫌通过三星电子子公司SEMES前员工获取图纸等机密资料，并以对华出口为目的研制相关设备。