【還原憲狀】光刻機的爭霸戰

荷蘭艾司摩爾（ASML）作為全球半導體設備行業的領導企業，以極紫外光（EUV）光刻機的研發與生產聞名。ASML的EUV技術在半導體行業具備不可替代的重要地位，對5納米以下製程的先進晶片製造至關重要。然而，ASML近年來面臨着美中關係緊張帶來的多重挑戰。

美國4年前對ASML實施出口限制，禁止其向中國出口EUV設備，導致公司在中國市場的銷售額大幅縮水。近日ASML下調了2025年的訂單預測，使其股價出現顯著下跌，這一消息也引發業界對ASML在中國市場前景的擔憂。

近年來，中國在半導體技術上取得進展。儘管當前的產能和技術尚未趕上EUV，但中國的晶片製造商已經開始利用較舊的深紫外光（DUV）光刻技術生產5納米和3納米節點的晶片。這也顯示出中國在半導體設備自給方面的進步，儘管在精度和性能上尚無法與EUV技術相提並論。